單晶硅爐生產(chǎn)用控溫制冷機組 氣體回收制冷機組以硅油、氟化液、乙二醇水溶液等為載冷劑，溫度范圍可在-150度至+300度，溫度穩(wěn)定性±0.1℃等可選。

   單晶硅爐生產(chǎn)用控溫制冷機組 氣體回收制冷機組適用于半導體、芯片、晶圓、電子元件、集成電路板等行業(yè)。

單晶硅爐生產(chǎn)用控溫制冷機組 氣體回收制冷機組在以下工藝中的作用：

硅片制造：切片后的晶圓需要用CMP使硅片表面光滑，研磨和泵送會產(chǎn)生熱量，須用冷卻器消除這些熱量；

沉積：根據(jù)沉積過程的不同需要用冷水機進行冷卻或加熱，溫度直接影響晶圓的均勻性和沉積深度；

光刻：把掩膜版上的精細圖形通過光線的爆光印制到硅片上，需要非常高的穩(wěn)定性確保鋒利的掩膜邊緣； 

刻蝕：利用化學或物理方法將晶圓表面附著的不必要的材質(zhì)進行去除，溫度控制對蝕刻均勻性非常重要；

離子注入：離子源的的能量需要去除以確保參雜離子穩(wěn)定注入，冷卻器可解決離子注入機的冷卻需求；

清洗：清洗設(shè)備占芯片制造工序步驟的30%以上，需要對清洗設(shè)備進行控溫以確保其穩(wěn)定運行；

電鍍：將電鍍液中的金屬離子電鍍到品圓表面形成金屬互聯(lián)需要冷卻裝置來保持穩(wěn)定性和高重復性結(jié)果;

測試：測試設(shè)備貫穿于集成申路生產(chǎn)制造流程(包括IC設(shè)計、制造以及封測)需要對設(shè)備進行溫度控制。

      我司專業(yè)生產(chǎn)單晶硅爐生產(chǎn)用控溫制冷機組 氣體回收制冷機組等控溫設(shè)備，接受非標定做。

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